[发明专利]气压膜压接装置在审
申请号: | 202310885939.X | 申请日: | 2023-07-19 |
公开(公告)号: | CN116631917A | 公开(公告)日: | 2023-08-22 |
发明(设计)人: | 戚国强;刘元;王尧;杨友志;蒋士杰;袁云霞;刘泸 | 申请(专利权)人: | 江苏快克芯装备科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 常州市英诺创信专利代理事务所(普通合伙) 32258 | 代理人: | 王美华 |
地址: | 213100 江苏省常州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及芯片烧结技术领域,尤其是一种气压膜压接装置,包括第一模块、隔离膜和第二模块,隔离膜位于第一模块与第二模块之间,其利用第一模块和第二模块夹紧隔离膜而分别形成施压腔和烧结腔,由于高压气路系统向烧结腔内通入施压气体时,烧结腔内产品靠近隔离膜的一侧表面均会与隔离膜接触,隔离膜会对与其接触的产品的表面施加均匀的压力,从而实现同时对多个产品进行加压烧结,并且烧结腔内的产品两两之间可小间隙放置,不受位置约束,对不同规格的芯片适用性强,且结构紧凑;保护气路系统还可以防止高压气路系统的高压气体向保护气路系统的低压管路扩散,从而起到保护作用。 | ||
搜索关键词: | 气压 膜压接 装置 | ||
【主权项】:
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造