[发明专利]一种硅金刚石红外复合窗口材料及其制备方法

摘要

本发明公开了一种硅金刚石红外复合窗口材料，包括光学硅和沉积在光学硅表面的金刚石薄膜，所述金刚石薄膜的厚度为80–120μm。该硅金刚石红外复合窗口材料具有加高的透过率和表面结合能力。本发明还提供了该硅金刚石红外复合窗口材料的制备方法，包括采用金刚石微粉悬浊液在光学硅上预处理5–10min，使得光学硅表面产生划痕；通过MPCVD(微波等离子化学气相沉积)方法，以CH4/H2混合气体为反应气体，在温度为在800–950℃下，在步骤(1)得到的光学硅表面持续生长50–80h得到金刚石层，研磨抛光金刚石层得到硅金刚石红外复合窗口材料。