[发明专利]一种测量金属膜膜厚的优化方法在审
申请号: | 202310843452.5 | 申请日: | 2023-07-10 |
公开(公告)号: | CN116825254A | 公开(公告)日: | 2023-09-29 |
发明(设计)人: | 冯宇;罗勇;张博;吴凡;徐晓辉 | 申请(专利权)人: | 武汉光迅科技股份有限公司 |
主分类号: | G16C60/00 | 分类号: | G16C60/00;G06F30/20;G01B7/06;G06F111/10 |
代理公司: | 深圳市爱迪森知识产权代理事务所(普通合伙) 44341 | 代理人: | 何婷 |
地址: | 430074 湖北省武汉市东湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: |
本发明公开了一种测量金属膜膜厚的优化方法,包括:创建输入功率、金属膜膜厚和工艺时间之间的测量模型;根据真空镀膜理论,获取金属膜的第一极限电阻率;获取第一极限电阻率、金属膜材电阻率和金属膜膜厚之间的对应关系;将对应关系和第一极限电阻率输入到测量模型内,将测量模型转换为中间模型;对金属膜方阻与输入功率进行线性拟合,获取中间模型的参数,并利用中间模型的参数对测量模型的参数进行定标,并利用标定后的测量模型计算出金属膜膜厚。本发明对测量模型的参数进行标定,在保证测量模型准确性的同时,只需要知道工艺时间和输入功率就能通过标定后的测量模型,计算出金属膜膜厚;省去了金属膜膜厚的测量,极大降低成本提高效率 |
||
搜索关键词: | 一种 测量 金属膜 优化 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉光迅科技股份有限公司,未经武汉光迅科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202310843452.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。