[发明专利]一种制备高质量超薄薄膜的引发式化学气相沉积设备在审

专利信息
申请号: 202310821508.7 申请日: 2023-07-05
公开(公告)号: CN116855921A 公开(公告)日: 2023-10-10
发明(设计)人: 刘通 申请(专利权)人: 埃纳膜(北京)科技有限公司
主分类号: C23C16/52 分类号: C23C16/52;C23C16/455;C23C16/458
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 101400 北京市*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明公开了一种制备高质量超薄薄膜的引发式化学气相沉积设备,涉及高分子薄膜材料制备技术领域,包括反应腔、供参与反应气体进入反应腔内的进气系统、控制反应压力的压力控制系统、实时监控薄膜沉积厚度的激光干涉系统,反应腔由上盖板、腔体本体和下底座三部分组成,均带有加热装置,且可分别拆卸维护;下底座上配置有可水平旋转的样品台,样品台配置水冷和电热温控系统;进气系统由多条单体气源管阀系统和引发剂气源管阀系统组成;本发明能够实时监控薄膜厚度,有效控制薄膜质量和均匀性,能够最大限度的热解引发剂,并保证单体与引发剂的充分混合,使单体反应更完全,避免试剂浪费和成本的增加。
搜索关键词: 一种 制备 质量 超薄 薄膜 引发 化学 沉积 设备
【主权项】:
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