[发明专利]一种气体喷淋头和化学气相沉积设备

摘要

本发明公开了一种气体喷淋头和化学气相沉积设备，气体喷淋头用于向反应室内输入反应气体，包括：进气口；与进气口连通的气体扩散室；设于气体扩散室中并与反应室相通的多个匀气管，匀气管的侧壁上沿轴向设有多个进气孔；流阻调节堵头，自上端密封穿设于匀气管中；通过使流阻调节堵头在匀气管中上下移动，调节匀气管上未被流阻调节堵头封堵的进气孔的数量，以调节匀气管的流阻，可使由各匀气管通出气体喷淋头时的反应气体的流量均匀化，从而达到匀气的效果。使用气体喷淋头的化学气相沉积设备，可以将经气体喷淋头进行流阻调节后的反应气体均匀导入反应室内，能够在基板表面上形成厚度均匀的膜层。