[发明专利]铜箔及其制备方法、集流体、电极片、二次电池及用电装置在审
| 申请号： | 202310684510.4 | 申请日： | 2023-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN116613322A | 公开（公告）日： | 2023-08-18 |
| 发明（设计）人： | 张迅;易伟华;李景艳;阳威;彭顺明 | 申请（专利权）人： | 江西沃格光电股份有限公司 |
| 主分类号： | H01M4/66 | 分类号： | H01M4/66;H01M4/13;H01M4/04 |
| 代理公司： | 华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 吴晓雯 |
| 地址： | 338004 江西省新余*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 本申请涉及一种铜箔及其制备方法、集流体、电极片、二次电池及用电装置。该铜箔包括基材、金属镀膜及表面铜层。其中，金属镀膜设于基材的至少一个表面上。表面铜层设于金属镀膜远离基材的表面上。其中，在基材的表面上，金属镀膜包括层叠设置的铜合金镀膜、纯铜镀膜及铜镍镀膜。铜合金镀膜通过脉冲直流电源溅射制备。通过脉冲直流电源溅射制备的铜合金镀膜具有较好的表面附着力，与基材表面的结合力较佳；铜镍镀膜具有较好的抗氧化性，能够较好地避免金属镀膜氧化，故而该铜箔整体的方阻较小且方阻均一性较好，同时与基材的结合力较好。 | ||
| 搜索关键词： | 铜箔 及其 制备 方法 流体 电极 二次 电池 用电 装置 | ||
【主权项】：
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