[发明专利]顶部间歇性掺杂的单晶炉及其掺杂方法有效

专利信息
申请号: 202310572905.5 申请日: 2023-05-22
公开(公告)号: CN116288658B 公开(公告)日: 2023-10-24
发明(设计)人: 陈伟;李林东;高伟杰;吴超慧;陈志军;张鹏;丁云飞;许堃 申请(专利权)人: 苏州晨晖智能设备有限公司
主分类号: C30B15/04 分类号: C30B15/04;C30B29/06
代理公司: 北京超凡宏宇知识产权代理有限公司 11463 代理人: 刘锋
地址: 215000 江苏省苏州市自由贸易试验区中国*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明的实施例提供了一种顶部间歇性掺杂的单晶炉及其掺杂方法,涉及单晶硅棒生产技术领域。顶部间歇性掺杂的单晶炉包括炉体和间隙性掺杂器,间隙性掺杂器安装在炉体的喉口位置,间隙性掺杂器包括相互连接、且可相对转动的上盘和下盘,上盘上开设有多个第一通孔,第一通孔内用于装载掺杂剂,下盘上开设有第二通孔,控制下盘相对上盘转动,以使第二通孔移动至第一通孔的下方、释放第一通孔内的掺杂剂。通过间隙性掺杂器实现在炉体内顶投间歇式加入掺杂剂,能够对硅液中杂质浓度得到有效精准把控,降低了杂质对硅晶体缺陷的负面影响,提高了单晶硅棒的成晶率和晶棒品质。
搜索关键词: 顶部 间歇性 掺杂 单晶炉 及其 方法
【主权项】:
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