[发明专利]射频器件的去嵌版图结构及去嵌方法在审

专利信息
申请号: 202310466124.8 申请日: 2023-04-27
公开(公告)号: CN116562216A 公开(公告)日: 2023-08-08
发明(设计)人: 张晓东;范象泉 申请(专利权)人: 华虹半导体(无锡)有限公司;上海华虹宏力半导体制造有限公司
主分类号: G06F30/392 分类号: G06F30/392;G01R31/26
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 崔莹
地址: 214028 江*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种射频器件的去嵌版图结构及去嵌方法,其中,去嵌版图结构包括:第一至第三开路测试结构和第一至第三短路测试结构,本申请通过利用若干不同尺寸的待测试射频器件进行模拟,分别选取0、最小值、最大值作为第一至第三开路测试结构的第一连接导线的长度;利用若干不同尺寸的待测试射频器件进行模拟,分别选取0、最小值、最大值作为第一至第三短路测试结构的第二连接导线的长度,本申请利用一组开路测试结构和一组短路测试结构获取所有待测试射频器件对应的开路/短路结构的寄生参数,避免了传统去嵌方式中一一对应地设计去嵌版图结构,从而节省版图面积,极大地降低了建模测量工作量,提高了测试效率。
搜索关键词: 射频 器件 版图 结构 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华虹半导体(无锡)有限公司;上海华虹宏力半导体制造有限公司,未经华虹半导体(无锡)有限公司;上海华虹宏力半导体制造有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202310466124.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top