[发明专利]一种氮化钛基电阻层的制备方法在审
| 申请号： | 202310431296.1 | 申请日： | 2023-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN116716593A | 公开（公告）日： | 2023-09-08 |
| 发明（设计）人： | 冯昊;张王乐;龚婷;秦利军;李建国;惠龙飞;房佳斌;李丹;胡逸云 | 申请（专利权）人： | 西安近代化学研究所 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455;C23C16/34;C23C16/52 |
| 代理公司： | 西安恒泰知识产权代理事务所 61216 | 代理人： | 王孝明 |
| 地址： | 710065 陕西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供了一种氮化钛基电阻层的制备方法，该方法采用原子层沉积法循环多个周期，每个周期内包括氮化钛沉积循环工艺和金属氧化物沉积循环工艺；或每个周期内包括氮化钛沉积循环工艺和金属氮化物沉积循环工艺。氮化钛基电阻层的厚度为20nm～80nm，氮化钛基电阻层的电阻值在0.01MΩ～500MΩ范围内能够调节。本发明的制备方法首次将金属氧化物或金属氮化物掺杂制备电阻值可控的电阻层薄膜。本发明的制备方法通过调节氮化钛及金属氮化物或氧化物掺杂比例，可获得厚度精确可控、电阻值大小精确可调的致密且均匀薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 氮化 电阻 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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