[发明专利]加热器、处理腔室、处理设备及其控制方法在审
| 申请号： | 202310407814.6 | 申请日： | 2023-04-14 |
| 公开（公告）号： | CN116445896A | 公开（公告）日： | 2023-07-18 |
| 发明（设计）人： | 施述鹏;沈安磊 | 申请（专利权）人： | 江苏微导纳米科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/48 | 分类号： | C23C16/48;C23C16/52;C23C16/455 |
| 代理公司： | 华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 张丹 |
| 地址： | 214000 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本申请涉及一种加热器、处理腔室、处理设备及其控制方法，包括加热件1和导热结构，导热结构形成有气流通道，且位于加热件的加热范围内，用于加热流通于气流通道内的气体。本申请的技术方案，加热件的能量通过导热结构被流通于气流通道内的气体再次利用，并用来加热工件，使得工件的加热效率提高，且加热件的能量利用率提高。 | ||
| 搜索关键词： | 加热器 处理 设备 及其 控制 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
