[发明专利]静电卡盘电源和半导体工艺设备在审
| 申请号： | 202310298060.5 | 申请日： | 2023-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN116436286A | 公开（公告）日： | 2023-07-14 |
| 发明（设计）人： | 王松涛;田丰;李玉站 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H02M3/00 | 分类号： | H02M3/00;H02M1/00;H02M3/335;H01L21/683;H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 | 代理人： | 杨柳苑 |
| 地址： | 100176 北京市大*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供了一种静电卡盘电源和半导体工艺设备。所述静电卡盘包括控制电压生成电路，用于根据用户设置值生成控制电压；升压电路，用于对所述控制电压进行升压以得到高压电压；参考电压引入电路，用于提供直流自偏电压，所述直流自偏压为所述半导体工艺设备执行工艺时产生的等离子体鞘层与所述静电卡盘上的晶圆之间的电压差；正极电压生成电路，用于将所述高压电压与所述直流自偏电压叠加，以生成正极电压；负极电压生成电路，用于将所述高压电压反向，并与所述直流自偏电压叠加，以生成负极电压。通过本发明实施例可以自动调节偏压，避免变压偏置对静电卡盘系统吸附力的影响，达到正负电极吸附力均衡，防止吸附失败现象发生。 | ||
| 搜索关键词： | 静电 卡盘 电源 半导体 工艺设备 | ||
【主权项】：
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