[发明专利]磁性核壳结构Nd(III)表面印迹聚合物制备方法及应用在审

专利信息
申请号: 202310254274.2 申请日: 2023-03-16
公开(公告)号: CN116333215A 公开(公告)日: 2023-06-27
发明(设计)人: 邓秀君;李悦;吕天兴;何红星;李维莉;鞠海东;王宝玲 申请(专利权)人: 昆明学院
主分类号: C08F226/02 分类号: C08F226/02;C08F220/54;C08F222/14;C08F2/44;C08K9/12;C08K3/22;C08J9/26;B01J20/26;B01J20/28;B01J20/30
代理公司: 济南誉琨知识产权代理事务所(普通合伙) 37278 代理人: 王英杰
地址: 650000 云南*** 国省代码: 云南;53
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摘要: 发明属于环保技术领域,尤其涉及一种磁性核壳结构Nd(III)表面印迹聚合物制备方法及应用。本发明以N‑异丙基丙烯酰胺(NIPAm)和2‑乙酰基氨基丙烯酸(AAA)为功能单体,利用Nd(III)与功能单体之间的强相互作用,结合表面离子印迹技术。在表面印迹薄层中形成以羟基和氨基为抓手的印迹位点,从而对Nd3+选择性识别。同时参与作用的NIPAm肿胀导致特定的识别孔的变形,以此达到对外界温度的变化而产生响应功能,进而达到对Nd(III)离子选择性吸附的目的。
搜索关键词: 磁性 结构 nd iii 表面 印迹 聚合物 制备 方法 应用
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  • H-J·亨勒;A·埃瑟尔;R·伊泽曼 - 索理思科技开曼公司
  • 2019-09-13 - 2023-01-13 - C08F226/02
  • 本发明涉及一种制备最终聚合物A的方法,其包含如下步骤:(A)提供起始聚合物V,其中,所述起始聚合物V可由下述单体的自由基聚合获得:(i)25‑90mol%的式I单体,其中,R1=H或C1‑C6烷基,(ii)3‑65mol%的丙烯酸的C1‑C4烷基酯或甲基丙烯酸的C1‑C4烷基酯,(iii)1‑45mol%的单烯键不饱和羧酸,单烯键不饱和磺酸,或单烯键不饱和膦酸,或其盐形式,(iv)0‑35mol%的不同于单体(i)、(ii)和(iii)的一种或多种烯键不饱和单体,其中,所有单体(i)、(ii)、(iii)和(iv)的总量为100mol%,和(B)在碱性条件下水解所提供的起始聚合物V以获得所述最终聚合物A,其中,聚合到所述起始聚合物V中的单体(i)的式(I)的N‑C(=O)R1基团至少部分水解以形成伯氨基。某些所获得的最终聚合物A可用于制备纸或纸板的方法中,包括将最终聚合物A添加到第一纸浆水悬浮液中,在透水基材上使获得的包含某些最终聚合物A的第二纸浆水悬浮液脱水以形成湿纸结构,并使所述湿纸结构脱水形成纸或纸板。所得到的纸或纸板具有良好的干强度。
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