[发明专利]晶片转移方法和晶片转移装置在审
申请号: | 202310113582.3 | 申请日: | 2023-02-14 |
公开(公告)号: | CN116631932A | 公开(公告)日: | 2023-08-22 |
发明(设计)人: | 椙浦一辉;森俊;柿沼良典;细野哲也;天野薰 | 申请(专利权)人: | 株式会社迪思科 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683;H01L21/67;H01L21/56;H01L21/50 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 乔婉;杨俊波 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供晶片转移方法和晶片转移装置,在不切断粘接带的情况下进行换贴而安全地转移晶片。该晶片转移方法将包含第1环状框架、第1粘接带和晶片的第1工件单元的该晶片转移至第2粘接带而形成第2工件单元,其中,该晶片转移方法具有如下的步骤:环状框架配设步骤,利用该第1环状框架和第2环状框架夹持爪体,由此使该第2环状框架按照不接触该第1环状框架的方式与该第1环状框架重叠;粘贴步骤,在该晶片的未粘贴于该第1粘接带的面上粘贴该第2粘接带,利用该第2环状框架借助该第2粘接带而保持该晶片;以及剥离步骤,从该晶片剥离该第1粘接带,并且从该第1环状框架剥离该第1粘接带。 | ||
搜索关键词: | 晶片 转移 方法 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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