[发明专利]半导体工艺超纯水生产方法、再生废水方法和微影方法在审
| 申请号： | 202310090792.5 | 申请日： | 2023-02-09 |
| 公开（公告）号： | CN116444058A | 公开（公告）日： | 2023-07-18 |
| 发明（设计）人： | 林恩添;江世雄 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | C02F9/00 | 分类号： | C02F9/00;H01L21/027;C02F1/78;C02F3/02;C02F1/32;C02F103/04;C02F1/00;C02F1/72;C02F1/28;C02F1/44 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 一种半导体工艺超纯水生产方法、再生废水方法和微影方法，生产用于半导体制造的超纯水(UPW)的系统及方法包括执行高级氧化工艺(AOP)预处理步骤、生物修复步骤、及高级氧化工艺后处理步骤的ABA模块。原水流动穿过ABA模块，ABA模块是用于生产超纯水的水处理系统的部分。接着将超纯水用于半导体制造工艺。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 工艺 超纯水 生产 方法 再生 废水 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司，未经台湾积体电路制造股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202310090792.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
