[实用新型]一种化学气相沉积设备有效
申请号: | 202223549090.9 | 申请日: | 2022-12-28 |
公开(公告)号: | CN219449868U | 公开(公告)日: | 2023-08-01 |
发明(设计)人: | 傅时梁;姜勇 | 申请(专利权)人: | 中微半导体设备(上海)股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
代理公司: | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人: | 完增荣;张双红 |
地址: | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种化学气相沉积设备,包括:反应腔;基座,位于所述反应腔内;固定板,位于所述反应腔外;支撑机构,包括支撑杆和驱动组件;所述支撑杆的第一端与驱动组件连接,所述支撑杆的第二端与所述基座连接,所述驱动组件用于驱动所述支撑杆转动和/或升降;其中,所述支撑机构安装在所述固定板并且完全位于所述固定板的一侧。本实用新型将基座的支撑机构固定于反应腔外的其他部件,优化了反应腔的受力情况,减少反应腔受力过大而被损坏的风险。 | ||
搜索关键词: | 一种 化学 沉积 设备 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的