[实用新型]一种反应离子蚀刻系统有效
| 申请号： | 202222992949.7 | 申请日： | 2022-11-10 |
| 公开（公告）号： | CN218730792U | 公开（公告）日： | 2023-03-24 |
| 发明（设计）人： | 苏宜鹏 | 申请（专利权）人： | 东莞市晟鼎精密仪器有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京智行阳光知识产权代理事务所(普通合伙) 11738 | 代理人： | 朱兴明 |
| 地址： | 523000 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及数控机床技术领域，具体为一种反应离子蚀刻系统，包括机架，所述机架内安装有真空泵组，所述机架的顶部固定有真空管道，所述真空管道与真空泵组连接，所述真空管道的一侧安装有RF匹配器，所述RF匹配器的上方设置有工艺壳体，所述工艺壳体内开设有工艺腔体；本实用新型通过设置电极间距调节机构，使该装置的电极片间距能够调节，代替传统的固定式电极方式作业，当对产品批量性作业时，能够适用于多种产品，且活动是电极片在制作时，不需要通过测试匹配，使该结构无论是在制作还是在使用过程中，均能提高便捷性和批量性作业的工作效率，同时能够通过免去测试匹配降低成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 反应 离子 蚀刻 系统 | ||
【主权项】：
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