[实用新型]一种反应离子蚀刻系统

权利要求书

1.一种反应离子蚀刻系统，其特征在于：包括机架(1)，所述机架(1)内安装有真空泵组(2)，所述机架(1)的顶部固定有真空管道(3)，所述真空管道(3)与真空泵组(2)连接，所述真空管道(3)的一侧安装有RF匹配器(4)，所述RF匹配器(4)的上方设置有工艺壳体(5)，所述工艺壳体(5)内开设有工艺腔体(6)，所述工艺腔体(6)内设置有喷淋组件和电极片本体(7)，所述工艺壳体(5)内设置有电极密封支撑柱(8)，所述电极密封支撑柱(8)的底端设置有电极片本体(7)的间距调节机构(9)，所述工艺壳体(5)的一侧设置有真空连接组件(10)，所述工艺壳体(5)的顶部设置有产品装载平台(11)。

2.根据权利要求1所述的一种反应离子蚀刻系统，其特征在于：所述真空连接组件(10)包括真空挡板阀(1001)，所述工艺壳体(5)的一侧安装有真空计(1002)，所述真空计(1002)与工艺腔体(6)连通，所述工艺壳体(5)的底部安装有真空抽口(1003)，所述真空挡板阀(1001)通过管道与真空抽口(1003)连接，所述工艺壳体(5)的一侧安装有真空门阀(1004)，所述真空门阀(1004)与工艺腔体(6)连通。

3.根据权利要求2所述的一种反应离子蚀刻系统，其特征在于：所述喷淋组件包括匀气喷淋板(1005)，所述匀气喷淋板(1005)安装在工艺腔体(6)内，所述匀气喷淋板(1005)呈圆盘形设置，所述匀气喷淋板(1005)的上表面设置有若干圆形通孔(1006)。

4.根据权利要求3所述的一种反应离子蚀刻系统，其特征在于：所述电极片本体(7)包括上电极片(701)和下电极片(702)，所述上电极片(701)安装在工艺腔体(6)的顶部，所述下电极片(702)安装在电极密封支撑柱(8)的顶部，所述电极密封支撑柱(8)的底端贯穿工艺壳体(5)且与工艺壳体(5)滑动连接。

5.根据权利要求4所述的一种反应离子蚀刻系统，其特征在于：所述间距调节机构(9)包括支架(901)，所述支架(901)通过螺丝与RF匹配器(4)的上表面固定连接，所述支架(901)内转动连接有螺杆(902)，所述支架(901)内设置有驱动螺杆(902)转动的驱动机构，所述支架(901)的上表面设置有导向柱(903)。

6.根据权利要求5所述的一种反应离子蚀刻系统，其特征在于：所述驱动机构包括伺服电机(904)和传动带，所述伺服电机(904)与基板固定连接，所述螺杆(902)设置有两个，每个所述螺杆(902)的一端均固定有传动轮(906)，所述伺服电机(904)的输出端通过转轴与其中一个传动轮(906)固定连接，所述传动带的两端位于两个传动轮(906)外。

7.根据权利要求6所述的一种反应离子蚀刻系统，其特征在于：所述间距调节机构(9)还包括升降板(907)，所述升降板(907)的两端设置有螺纹套筒(908)，所述螺纹套筒(908)螺纹连接在螺杆(902)外壁，所述导向柱(903)贯穿升降板(907)且与升降板(907)滑动连接，所述电极密封支撑柱(8)的底端与升降板(907)固定连接。