[实用新型]镀膜设备

摘要

一种镀膜设备，包括：真空腔体，真空腔体包括真空腔室，真空腔体电连接第一电位；位于真空腔室内，且与真空腔体绝缘接触的电场组件，电场组件包括：电极架，电极架电连接第二电位，第二电位与第一电位不同；与电极架可拆卸连接的若干电极板，若干电极板分别与电极架电连接，相邻的电极板之间具有第一间隙。由于每块电极板均属于等电位，放电的环境一致，进而提升真空腔室内的电场分布均匀性。当电场均匀性提升会使得样品表面涂层的均匀性提升，进而提升镀膜效果。另外，相邻的电极板之间具有第一间隙，使得电极板之间形成空心阴极效应，进而使得辉光放电区域相互叠加，辉光变强，等离子体浓度增加，进而提升镀膜效率和质量。