[实用新型]镀膜设备有效
申请号: | 202222321208.6 | 申请日: | 2022-09-01 |
公开(公告)号: | CN218232566U | 公开(公告)日: | 2023-01-06 |
发明(设计)人: | 宗坚 | 申请(专利权)人: | 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C23C16/505 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 张瑞 |
地址: | 214000 江苏省无锡市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 镀膜 设备 | ||
1.一种镀膜设备,其特征在于,包括:
真空腔体,所述真空腔体包括真空腔室,所述真空腔体电连接第一电位;位于所述真空腔室内,且与所述真空腔体绝缘接触的电场组件,其中,所述电场组件包括:
电极架,所述电极架电连接第二电位,所述第二电位与所述第一电位不同;与所述电极架可拆卸连接的若干电极板,若干所述电极板分别与所述电极架电连接,若干所述电极板沿第一方向平行排布,且相邻的所述电极板之间具有第一间隙。
2.如权利要求1所述的镀膜设备,其特征在于,还包括:与所述电极板表面固定连接的若干载物板,相邻的所述载物板之间具有第二间隙。
3.如权利要求2所述的镀膜设备,其特征在于,所述第二间隙的尺寸范围为:10毫米~20毫米。
4.如权利要求2所述的镀膜设备,其特征在于,所述电极板包括相对的第一表面和第二表面,所述第一表面和第二表面均固定连接有若干所述载物板。
5.如权利要求1所述的镀膜设备,其特征在于,还包括:开设于所述真空腔体底部的绝缘滑槽;与所述电极架底部固定连接的若干万向球轴承,所述万向球轴承装配于所述绝缘滑槽内。
6.如权利要求1所述的镀膜设备,其特征在于,所述第一方向包括:竖直方向或水平方向。
7.如权利要求1所述的镀膜设备,其特征在于,所述第一间隙的尺寸范围为:10毫米~80毫米。
8.如权利要求1所述的镀膜设备,其特征在于,所述第一电位包括:接地电位;所述第二电位包括:负电位。
9.如权利要求1所述的镀膜设备,其特征在于,所述第二电位包括:脉冲直流;脉冲直流的参数包括:电压为300伏~1000伏,频率为1千赫兹~350千赫兹。
10.如权利要求1所述的镀膜设备,其特征在于,所述电极板通过若干金属固定卡件与所述电极架可拆卸连接。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的