[实用新型]用于发光芯片制程的基板有效

专利信息
申请号: 202221207977.7 申请日: 2022-05-19
公开(公告)号: CN217544637U 公开(公告)日: 2022-10-04
发明(设计)人: 王帅;任俊杰;李洛 申请(专利权)人: 东莞市中镓半导体科技有限公司
主分类号: H01L33/12 分类号: H01L33/12;H01L33/20;H01L33/00
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 赵月芬
地址: 523000 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开一种用于发光芯片制程的基板,包括生长衬底、生长在生长衬底上的缓冲层以及生长在缓冲层背离生长衬底的一面上的外延层,缓冲层的厚度大于或等于100nm,外延层的厚度小于或等于8um,通过增加缓冲层的厚度,同时控制外延层的厚度较小,使得基板的Bow值较低,在后续的制程,如研磨抛光生长衬底以减薄生长衬底的过程中,基板不容易发生裂片。
搜索关键词: 用于 发光 芯片
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东莞市中镓半导体科技有限公司,未经东莞市中镓半导体科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202221207977.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top