[实用新型]一种半导体单晶硅片生产用酸洗装置有效

专利信息
申请号: 202220548947.6 申请日: 2022-03-14
公开(公告)号: CN217251113U 公开(公告)日: 2022-08-23
发明(设计)人: 徐晶骥;董国斌;叶俊 申请(专利权)人: 上海东煦电子科技有限公司
主分类号: B08B3/08 分类号: B08B3/08;B08B3/02;B08B3/04;B08B13/00;F26B21/00;H01L21/67
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 200135 上海市浦东新区自*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型适用于半导体单晶硅片生产领域,提供了一种半导体单晶硅片生产用酸洗装置,包括箱体和箱盖,所述箱盖铰接在箱体上,所述箱盖背离箱体的一侧固定连接有把手,还包括:所述箱体的内部端面开设有两个安装槽,所述安装槽的内部设置有第二电动推杆,两个所述第二电动推杆的伸缩端之间设置有放置组件,所述放置组件用来盛放单晶硅片。本实用新型通过控制第二电动推杆的伸缩端缩短,带动放置组件下降,使放置组件浸入浸酸池中,洗掉单晶硅片表面的杂质,再将放置组件升起,通过喷头喷出高压水对单晶硅片的表面进行冲洗,冲掉单晶硅片上残留的浸酸溶液,避免腐蚀单晶硅片,使清洗效果更好;通过烘干组件能够对单晶硅片进行烘干。
搜索关键词: 一种 半导体 单晶硅 生产 酸洗 装置
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海东煦电子科技有限公司,未经上海东煦电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202220548947.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top