[实用新型]基板处理装置有效

专利信息
申请号: 202220205274.4 申请日: 2022-01-25
公开(公告)号: CN217214651U 公开(公告)日: 2022-08-16
发明(设计)人: 畠山真一;川上浩平 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/683
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 实用新型涉及基板处理装置,其不提高排气压地防止自基板甩出的成膜处理液向液体接受部的外部泄漏。基板处理装置包括:保持基板并使其旋转的保持旋转部、向基板供给成膜处理液的供给部以及接受因旋转而自基板甩出的成膜处理液的液体接受部,液体接受部在上部具有供基板穿过并向上方的空间开口的孔,液体接受部的内部被排气,基板处理包含供给处理和干燥处理,基板处理装置还包括相对于液体接受部的上表面进退自如的圆环状的圆环构件,在供给处理时,圆环构件以封堵液体接受部的孔的周缘的方式设于液体接受部的上表面,在干燥处理时,圆环构件自液体接受部的上表面退避。
搜索关键词: 处理 装置
【主权项】:
暂无信息
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