[实用新型]基板处理装置

权利要求书

1.一种基板处理装置，其对基板进行处理，其特征在于，

该基板处理装置包括：

保持旋转部，其保持基板并使该基板旋转；

供给部，其向被所述保持旋转部保持着的基板供给成膜处理液；以及

液体接受部，其接受由于所述保持旋转部的旋转而自基板甩出的成膜处理液，

所述液体接受部在上部具有孔，该孔供向所述保持旋转部保持的基板穿过并成为相对于上方的空间的开口，所述液体接受部的内部被排气，

所述基板处理包含向基板供给成膜处理液并使该基板旋转的供给处理和在所述供给处理之后使基板旋转并使基板上的成膜处理液干燥的干燥处理，

该基板处理装置还包括圆环状的圆环构件，该圆环构件构成为相对于所述液体接受部的上表面进退自如，

在所述供给处理时，所述圆环构件以封堵所述液体接受部的所述孔的周缘的方式设置于所述液体接受部的上表面，在所述干燥处理时，所述圆环构件自所述液体接受部的上表面退避。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述液体接受部具有形成所述孔的顶壁，

所述圆环构件在设置于所述液体接受部的上表面时成为自所述顶壁的内周端向内周侧延伸设置的状态。

3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

所述液体接受部具有供自所述基板向侧方甩出的处理液碰撞的侧方壁，所述顶壁以比所述侧方壁接近水平的角度自该侧方壁延伸。

4.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述圆环构件的与被所述保持旋转部保持着的基板相对的面是以自外周侧朝向内周端逐渐降低的方式倾斜而成的倾斜面。

5.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述圆环构件在与被所述保持旋转部保持着的基板相对的面的内周侧具有凸部，该凸部形成为与该圆环构件同心的圆环状并朝向该基板突出。

6.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述圆环构件的上表面形成为平坦，所述上表面的内周端位于比被所述保持旋转部保持着的基板的外周端靠内侧的位置，所述上表面的外周端位于比所述液体接受部的所述孔的外周端靠外侧的位置。

7.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

该基板处理装置还包括气流形成部，该气流形成部形成清洁气体的下降气流。

8.根据权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，

所述圆环构件的内径为140mm以上且260mm以下。

9.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

利用所述液体接受部的上表面和在该上表面设置的所述圆环构件的与该上表面相对的面形成迷宫构造。

10.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述液体接受部具有密封部，该密封部将所述圆环构件的外周侧与所述液体接受部之间密封。

11.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

该基板处理装置具有抽吸部，该抽吸部抽吸所述圆环构件与所述液体接受部之间的间隙的气体。

12.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述干燥处理时的基板的旋转速度低于所述供给处理时的基板的旋转速度。