[发明专利]半导体存储器件在审
申请号: | 202211566742.1 | 申请日: | 2022-12-07 |
公开(公告)号: | CN116615025A | 公开(公告)日: | 2023-08-18 |
发明(设计)人: | 朴正敏;林汉镇 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H10B12/00 | 分类号: | H10B12/00 |
代理公司: | 北京市立方律师事务所 11330 | 代理人: | 李娜;谢晨 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种半导体存储器件,包括:衬底;以及电容器结构,所述电容器结构位于所述衬底上,并且包括下电极、电容器电介质层和上电极。其中,所述电容器电介质层包括:下界面层,所述下界面层位于所述下电极上并且掺杂有第一导电类型的杂质;上界面层,所述上界面层在所述上电极下方,并且掺杂有并非所述第一导电类型的第二导电类型的杂质;以及电介质结构,所述电介质结构位于所述下界面层与所述上界面层之间。 | ||
搜索关键词: | 半导体 存储 器件 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202211566742.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。