[发明专利]一种TFE遮罩免清洗结构及工艺方法在审
| 申请号： | 202211383809.8 | 申请日： | 2022-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN115747753A | 公开（公告）日： | 2023-03-07 |
| 发明（设计）人： | 温质康;庄丹丹;乔小平 | 申请（专利权）人： | 福建华佳彩有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/04 | 分类号： | C23C16/04;C23C16/30;C23C16/34;C23C16/40;C23C16/44;C23C16/50 |
| 代理公司： | 福州市京华专利代理事务所(普通合伙) 35212 | 代理人： | 林云娇 |
| 地址： | 351100 福*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种TFE遮罩免清洗结构及工艺方法，涉及薄膜封装技术领域。所述TFE遮罩免清洗结构包括：界面保护层，形成于所述TFE遮罩上方，用于保护TFE遮罩表面的平整性，防止后续制程对TFE遮罩表面的腐蚀和破坏而引起精度偏差；剥离层，形成于所述界面保护层上方，所述剥离层耐高温且化学性能稳定，用于隔绝绝缘，且在激光照射下或在蚀刻液作用下可剥离。本发明提供的一种TFE遮罩免清洗结构及工艺方法，节省了TFE遮罩阳极氧化的工艺，节省大量的制造成本，避免清洗废料对环境的污染。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 tfe 遮罩免 清洗 结构 工艺 方法 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
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