[发明专利]一种缺陷检测系统及缺陷检测方法在审
| 申请号： | 202211165738.4 | 申请日： | 2022-09-23 |
| 公开（公告）号： | CN115508364A | 公开（公告）日： | 2022-12-23 |
| 发明（设计）人： | 田依杉;兰艳平 | 申请（专利权）人： | 上海御微半导体技术有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/88 | 分类号： | G01N21/88;G01N21/01 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 初春 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区中国*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种缺陷检测系统及缺陷检测方法，包括光线输出模块、光线调节模块、探测模块和处理控制模块；光线输出模块用于输出探测光束；光线调节模块位于探测光束的传输路径上，用于调节探测光束入射至待探测物，待探测物反射探测光束形成成像光束，成像光束携带探测物的缺陷信息；探测模块位于成像光束的传播路径上，形成探测图像；处理控制模块与探测模块连接，用于根据探测图像确定待探测物的缺陷信息；处理控制模块还与光线调节模块连接，用于根据探测需求选择照明模式，照明模式包括明场照明模式、暗场照明模式以及眀场暗场混合照明模式。处理控制模块通过对光线调节模块的调节，实现探测光束完成不同的照明模式，满足更多样化的需求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 缺陷 检测 系统 方法 | ||
【主权项】：
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