[发明专利]静电保护结构在审

专利信息
申请号: 202211045794.4 申请日: 2022-08-29
公开(公告)号: CN115394772A 公开(公告)日: 2022-11-25
发明(设计)人: 范炜盛 申请(专利权)人: 华虹半导体(无锡)有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 焦健
地址: 214028 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供一种静电保护结构,包括:半导体衬底,具有第一阱区及与所述第一阱区相邻设置的第二阱区;第一掺杂区,形成于所述第一阱区及所述第二阱区交界处的表层中;第二掺杂区,形成于所述第一阱区的表层中;第三掺杂区,形成于所述第二阱区的表层中;MOS管,包括栅极、漏区及源区,形成于所述第一掺杂区与所述第二掺杂区之间或形成于所述第一掺杂区与所述第三掺杂区之间,且所述栅极及所述漏区与所述第一掺杂区短接。通过本发明解决了现有的SCR静电防护结构维持电压偏低,易发生闩锁效应的问题。
搜索关键词: 静电 保护 结构
【主权项】:
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