[发明专利]一种可控大面积三色量子点微纳阵列制备方法在审

专利信息
申请号: 202211032722.6 申请日: 2022-08-26
公开(公告)号: CN115548242A 公开(公告)日: 2022-12-30
发明(设计)人: 何可;吴雨辰;江雷 申请(专利权)人: 北京仿生界面科学未来技术研究院
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L51/50;B82Y30/00;B82Y40/00;B41M5/00
代理公司: 北京巨弘知识产权代理事务所(普通合伙) 11673 代理人: 赵洋
地址: 100094 北京市海淀区*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种可控大面积三色量子点微纳阵列制备方法,通过在靶向基底表面规整喷墨打印不同颜色量子点阵列,利用具有不对称浸润性微柱阵列的印刷模板,结合液桥退浸润生长技术,制备大面积红绿蓝交替排列的微纳阵列。本发明可提高制备效率及产品质量;制备过程中无需加入添加剂,降低对后期电注入器件的影响;器件制备过程重复性高,无需重复制备模板,节约成本;普适性强,可制备不同形状模板以得到不同图案化微纳结构,且适用于不同溶液;可大规模制备,解决了传统技术不能大规模制备的问题。本发明实现了精确在不同基底上可控制备三基色交替排列的量子点阵列,有望实现大规模产业化生产,为设计制造显示器件规模化提供了新的解决思路。
搜索关键词: 一种 可控 大面积 三色 量子 点微纳 阵列 制备 方法
【主权项】:
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