[发明专利]一种晶体管及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202210971333.3 申请日: 2022-08-15
公开(公告)号: CN115050817B 公开(公告)日: 2022-11-18
发明(设计)人: 侯合林;谢志文;张铭信;陈铭胜;金从龙 申请(专利权)人: 江西兆驰半导体有限公司
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/20;H01L29/207;H01L29/227;H01L29/778;H01L21/335
代理公司: 南昌旭瑞知识产权代理事务所(普通合伙) 36150 代理人: 刘红伟
地址: 330000 江西省南昌市南*** 国省代码: 江西;36
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摘要: 发明公开了一种晶体管及其制备方法,涉及半导体技术领域,该晶体管包括衬底,以及依次层叠于衬底上的成核层、缓冲层、复合高阻层、GaN沟道层、AlGaN势垒层以及GaN帽层,复合高阻层包括第一子层和设于第一子层之上的第二子层,第一子层为Si3N4层,第二子层包括n个周期性层叠的C掺杂GaN层以及ZnO层,通过该设置,可有效提升复合高阻层的晶体质量,降低漏电电流,提高器件的可靠性和使用寿命。
搜索关键词: 一种 晶体管 及其 制备 方法
【主权项】:
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