[发明专利]减反射膜及其制备方法和应用在审

专利信息
申请号: 202210917348.1 申请日: 2022-08-01
公开(公告)号: CN115113305A 公开(公告)日: 2022-09-27
发明(设计)人: 陈小群;金跃红;谭造时 申请(专利权)人: 蓝思科技(长沙)有限公司
主分类号: G02B1/115 分类号: G02B1/115;G02B5/00;C23C14/06;C23C14/00;C23C14/34
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 代理人: 李丙林
地址: 410100 湖南省长沙*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明提供了一种减反射膜及其制备方法和应用,涉及一体黑显示器件技术领域。所述减反射膜包括基材以及镀载在基材上的吸收膜层;其中,所述吸收膜层包括交替层叠设置的至少一层由TixSiyN材料制得的吸收层,至少一层的低折射率层和至少一层的高折射率层;所述吸收膜层的厚度为100~1000nm,所述吸收膜层中由TixSiyN材料制得的吸收层的总厚度≤55nm,且不为0nm。上述TixSiyN材料制得的吸收层不但在可见光区具有很好的吸收,同时还具有较高的面电阻;此外本申请通过减反射膜的厚度以及吸收膜层中由TixSiyN材料制得的吸收层的总厚度设置,使本申请减反射膜在具有良好的吸收的同时,还具备高面阻性能。
搜索关键词: 减反射膜 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
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