[发明专利]减反射膜及其制备方法和应用

说明书

本发明提供了一种减反射膜及其制备方法和应用，涉及一体黑显示器件技术领域。所述减反射膜包括基材以及镀载在基材上的吸收膜层；其中，所述吸收膜层包括交替层叠设置的至少一层由Ti_xSi_yN材料制得的吸收层，至少一层的低折射率层和至少一层的高折射率层；所述吸收膜层的厚度为100～1000nm，所述吸收膜层中由Ti_xSi_yN材料制得的吸收层的总厚度≤55nm，且不为0nm。上述Ti_xSi_yN材料制得的吸收层不但在可见光区具有很好的吸收，同时还具有较高的面电阻；此外本申请通过减反射膜的厚度以及吸收膜层中由Ti_xSi_yN材料制得的吸收层的总厚度设置，使本申请减反射膜在具有良好的吸收的同时，还具备高面阻性能。

技术领域

本发明涉及显示器件技术领域，尤其是涉及一种减反射膜及其制备方法和应用。

背景技术

随着科学技术的发展和人类文明的进步，触摸显示屏的应用越来越广泛，人们对显示屏也有着越来越高的要求，需要产品在息屏时视窗区(VA)与油墨区(BM)或其它材料的非视窗区达到一致的视觉效果，达到良好的一体黑效果。

为减少油墨区与视窗区的颜色差异，现有技术也出现了一些利用金属氮化物吸收材料制得的减反射膜产品，但现有的金属氮化物吸收材料往往存在面电阻较小或吸光率较差的问题，例如TiN吸收材料的面电阻仅为1MΩ/cm²，而触摸显示屏的触控功能正常面电阻需100MΩ/cm²(即单位cm²面积条件下的电阻阻抗需100MΩ)，很难将其应用于触屏膜。

因此，研究开发一种具有较佳的光吸收率和面电阻的减反射膜，以应用于触屏一体黑显示器件，变得十分必要和迫切。

有鉴于此，特提出本发明。

发明内容

本发明的第一目的在于提供一种减反射膜，所述减反射膜在具有良好的吸收的同时，又保证了高阻性能，在不影响触控功能基础上能够很好的达到一体黑的效果。

本发明的第二目的在于提供一种减反射膜的制备方法。

本发明的第三目的在于提供一种减反射膜的应用，减反射膜可以广泛应用于触屏一体黑显示器件的制备过程中。

为了实现本发明的上述目的，特采用以下技术方案：

本发明提供的一种减反射膜，所述减反射膜包括基材以及镀载在基材上的吸收膜层；

所述吸收膜层包括交替层叠设置的至少一层由Ti_xSi_yN材料制得的吸收层，至少一层的低折射率层和至少一层的高折射率层；

所述吸收膜层的厚度为100～1000nm，所述吸收膜层中由Ti_xSi_yN材料制得的吸收层的总厚度≤55nm，且不为0nm。

进一步的，所述由Ti_xSi_yN材料制得的吸收层在可见光范围内的吸收率为0～50％，面电阻＞100MΩ/cm²；

优选地，Ti_xSi_yN结构式中：0x0.19，0.81y1，x+y＝1；

更优选地，Ti_xSi_yN结构式中：0.08x0.16，0.84y0.92，x+y＝1。

进一步的，所述吸收膜层的膜系层数≥5层；

优选地，所述吸收膜层中单层由Ti_xSi_yN材料制得的吸收层的厚度为1～55nm，优选为5～20nm，更优选为7～10nm。