[发明专利]数据通信系统、方法和CVD镀膜设备在审
申请号: | 202210870345.7 | 申请日: | 2022-07-22 |
公开(公告)号: | CN115058701A | 公开(公告)日: | 2022-09-16 |
发明(设计)人: | 高阔;孙文彬 | 申请(专利权)人: | 无锡邑文电子科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;H04B1/40 |
代理公司: | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 张欣欣 |
地址: | 214028 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明实施例提出一种数据通信系统、方法和CVD镀膜设备,涉及数据通信领域。在该数据通信系统中,中央处理器与多个分线盒通过串联的方式依次通信连接,当需要获取信号时,中央处理器仅需要将数据获取信息发送至当前连接的分线盒,该分线盒再将数据获取信息发送至与之相邻的下一个分线盒,以此使得每个分线盒都能获取到数据获取信息,在每个分线盒获取到数据获取信息时,即向相邻前一个分线盒发送传感器检测信号,以此使得每个分线盒都将传感器检测信号发送至中央处理器;通过上述系统,只需要一条通信线路,即可完成信号的获取,减少了线缆的数量多,不再需要航插,使得线路简单,减少了出错。 | ||
搜索关键词: | 数据通信 系统 方法 cvd 镀膜 设备 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的