[发明专利]一种半导体行业CVD粉尘资源化回收利用的方法在审
申请号: | 202210852960.5 | 申请日: | 2022-07-20 |
公开(公告)号: | CN115010092A | 公开(公告)日: | 2022-09-06 |
发明(设计)人: | 刘松;高月;姜灿;易乐;刘东洋;潘庆祥 | 申请(专利权)人: | 湖北九宁化学科技有限公司 |
主分类号: | C01B7/19 | 分类号: | C01B7/19;C01B33/14;C01C1/24 |
代理公司: | 北京睿智保诚专利代理事务所(普通合伙) 11732 | 代理人: | 刘晓静 |
地址: | 438000 湖北省黄冈市黄州区路*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明属于含氟废物资源化回收技术领域,公开了一种半导体行业CVD粉尘资源化回收利用的方法。本发明是将CVD粉尘和浓硫酸酸解提取氟化氢,反应液经过滤后得到的滤饼,经洗涤、过滤、干燥得到二氧化硅副产品,反应液经过滤后得到的滤液经浓缩结晶、冷却结晶、离心、干燥得到硫酸铵副产品。本发明可以有效地将CVD粉尘中的氟元素、硅元素及氮元素回收为对应的产品,系统内的水可以循环回用,避免资源的浪费和废物的产生,变废为宝。 | ||
搜索关键词: | 一种 半导体 行业 cvd 粉尘 资源 回收 利用 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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