[发明专利]基板处理装置和基板处理方法在审
| 申请号： | 202210826503.9 | 申请日： | 2022-07-13 |
| 公开（公告）号： | CN115692151A | 公开（公告）日： | 2023-02-03 |
| 发明（设计）人： | 小滨直道 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及基板处理装置和基板处理方法。局部地且容易地调整基板的周端部的处理状态。基板处理装置构成为包括：处理容器，其容纳基板；载物台，其设于所述处理容器内，具有载置所述基板的载置区域；气体供给部，其供给处理气体，以对载置于所述载置区域的基板进行处理；排气口，其对所述处理容器内进行排气；下壁，其沿着所述载置区域的周缘形成并以包围该基板的方式设于所述载物台；以及上壁，其在所述下壁的壁周局部地向上方突出，并相对于该下壁独立地形成。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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