[发明专利]基板处理装置和基板处理方法

权利要求书

1.一种基板处理装置，其中，

该基板处理装置包括：

处理容器，其容纳基板；

载物台，其设于所述处理容器内，具有载置所述基板的载置区域；

气体供给部，其供给处理气体，以对载置于所述载置区域的基板进行处理；

排气口，其对所述处理容器内进行排气；

下壁，其沿着所述载置区域的周缘形成并以包围该基板的方式设于所述载物台；以及

上壁，其在所述下壁的壁周局部地向上方突出，并相对于该下壁独立地形成。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

所述基板俯视时呈矩形，

所述下壁包括互相面对的两个第1壁部和与所述第1壁部相邻且互相面对的两个第2壁部，

所述上壁从各所述第1壁部和各所述第2壁部局部地向上方突出地设置。

3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，

所述下壁的沿着壁周的上端的高度一致。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的基板处理装置，其中，

所述上壁相对于所述下壁拆装自如。

5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其中，

该基板处理装置设有第1连接部，该第1连接部形成为从所述上壁和所述下壁中的一者向另一者延伸，相对于该另一者利用螺纹件进行连接，将该上壁和该下壁互相固定。

6.根据权利要求4所述的基板处理装置，其中，

该基板处理装置设有第2连接部，该第2连接部通过分别粘接于所述上壁和所述下壁而将该上壁和该下壁互相固定。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的基板处理装置，其中，

在沿着所述下壁的壁周观察时，所述上壁的高度恒定。

8.根据权利要求1～6中任一项所述的基板处理装置，其中，

在沿着所述下壁的壁周观察时，所述上壁的高度变化。

9.根据权利要求1～8中任一项所述的基板处理装置，其中，

所述排气口在所述载物台的外侧朝向上方开口，

所述上壁设为在俯视时将所述载置区域和所述排气口划分开。

10.一种基板处理方法，其中，

该基板处理方法包括以下工序：

将基板容纳于处理容器；

在设于所述处理容器内的载物台上的载置区域载置所述基板；

利用排气口对所述处理容器内进行排气；

利用沿着所述载置区域的周缘形成的下壁包围所述载物台上的基板；

从气体供给部供给处理气体，对所述载物台上的所述基板进行处理；以及

利用所述下壁和在该所述下壁的壁周局部地向上方突出并相对于该下壁独立地形成的上壁，限制从所述基板朝向所述排气口的所述处理气体的流动。

11.根据权利要求10所述的基板处理方法，其中，

所述上壁设为将在未设置该上壁的情况下在所述基板的周端部处理速度局部较高的位置和所述排气口划分开。