[发明专利]晶片的处理方法在审

专利信息
申请号: 202210798327.2 申请日: 2022-07-08
公开(公告)号: CN115642105A 公开(公告)日: 2023-01-24
发明(设计)人: 中村胜 申请(专利权)人: 株式会社迪思科
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 乔婉;于靖帅
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供晶片的处理方法,即使晶片的正面上存在突起状物,也能够在不使晶片破损或损伤的情况下解决碎屑直接附着于器件芯片的正面侧而使品质降低的问题。该晶片的处理方法是由交叉的多条分割预定线划分而在正面上形成有多个器件的晶片的处理方法,其中,该晶片的处理方法包含如下的工序:低粘性树脂包覆工序,在晶片的正面上涂布粘性低的第一液态树脂而覆盖形成有多个器件的区域;高粘性树脂包覆工序,在该低粘性树脂包覆工序之后,在晶片的正面上涂布粘性比第一液态树脂高的第二液态树脂而与该第一液态树脂重叠;树脂硬化工序,使已包覆的第一液态树脂和第二液态树脂硬化;以及平坦化工序,将硬化的树脂平坦化。
搜索关键词: 晶片 处理 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社迪思科,未经株式会社迪思科许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202210798327.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top