[发明专利]一种用于化学机械抛光工艺的清洗系统在审
| 申请号： | 202210673715.8 | 申请日： | 2022-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN115069640A | 公开（公告）日： | 2022-09-20 |
| 发明（设计）人： | 范建国;杨云春;郭鹏飞;陆原;张拴;孙庆灵;王文正;王晨星 | 申请（专利权）人： | 赛莱克斯微系统科技（北京）有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02;B08B13/00;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京众达德权知识产权代理有限公司 11570 | 代理人： | 詹守琴 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区北京经济技术开发*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请公开了一种用于化学机械抛光工艺的清洗系统，包括：若干清洗装置，每个清洗装置设有用于清洗晶圆的清洗槽；供液装置，存储用于清洗晶圆的清洗液；以及，阀门分配箱，包括总管接口以及若干分管接口，总管接口通过供液总管与供液装置连通，分管接口通过供液分管与清洗装置一一对应连通。供液装置通过阀门分配箱与清洗装置连通，利用阀门分配箱的分流作用供液装置中的清洗液分流，实现清洗液从单一来源分配到若干清洗装置，并且可以对分流至每个清洗装置中的清洗液单独地进行调控，满足每个清洗装置的个别应用需求，使用于化学机械抛光工艺的清洗系统的供给压力和供给流量更稳定，避免了各清洗装置之间的彼此影响，提高了清洗装置的清洗效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 化学 机械抛光 工艺 清洗 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于赛莱克斯微系统科技（北京）有限公司，未经赛莱克斯微系统科技（北京）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202210673715.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
