[发明专利]一种适用于干刻工艺的碳化硅部件的清洗方法在审
| 申请号： | 202210573490.9 | 申请日： | 2022-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN114985366A | 公开（公告）日： | 2022-09-02 |
| 发明（设计）人： | 许杰 | 申请（专利权）人： | 合肥升滕半导体技术有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/08 | 分类号： | B08B3/08;B08B3/02;B08B7/00;B08B3/12;B08B1/00;F26B23/00;F26B21/00 |
| 代理公司： | 北京众允专利代理有限公司 11803 | 代理人： | 王景禾 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市新站*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种适用于干刻工艺的碳化硅部件的清洗方法，涉及碳化硅部件清洗技术领域。包括以下步骤：S1、遮蔽处理；S2、有机浸泡；S3、有机擦拭；S4、去遮蔽；S5、水洗操作；S6、干冰操作；S7、CDA吹干；S8、检测处理；S9、超声处理；S10、烘干处理。该适用于干刻工艺的碳化硅部件的清洗方法，本发明通过对碳化硅部件进行遮蔽、有机浸泡、有机擦拭、去遮蔽、水洗操作、干冰操作、CDA吹干以及烘干操作，实现对碳化硅部件的表面、孔内及螺纹处进行清洗，进而便于去除沉积物以及附着的膜，便于实现适用于干刻工艺的碳化硅部件的清洗；本发明清洗方法改善了以往繁琐清洗的方式，本发明清洗方法清洗效果好以及方便工作人员的操作。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 适用于 刻工 碳化硅 部件 清洗 方法 | ||
【主权项】：
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