[发明专利]分析缺陷的方法在审
| 申请号： | 202210519246.4 | 申请日： | 2022-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN114911085A | 公开（公告）日： | 2022-08-16 |
| 发明（设计）人： | 洪文正 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/13 | 分类号： | G02F1/13;G06T7/00 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 黄艳 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种分析缺陷的方法，适于利用电子装置来执行下述步骤。沿着水平方向，将检测布局等份划分为多个直条区域，并计算每一直条区域的第一缺陷点数。并且，沿着垂直方向，将检测布局等份划分为多个横条区域，并计算每一横条区域的第二缺陷点数。在满足至少下述一个规定条件的情况下，判定检测布局具有缺陷群集。所述规定条件包括：至少一个直条区域的第一缺陷点数大于第一预设值；以及至少一个横条区域的第二缺陷点数大于第二预设值。 | ||
| 搜索关键词： | 分析 缺陷 方法 | ||
【主权项】：
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