[发明专利]分析缺陷的方法在审

专利信息
申请号: 202210519246.4 申请日: 2022-05-12
公开(公告)号: CN114911085A 公开(公告)日: 2022-08-16
发明(设计)人: 洪文正 申请(专利权)人: 友达光电股份有限公司
主分类号: G02F1/13 分类号: G02F1/13;G06T7/00
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 黄艳
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 分析 缺陷 方法
【说明书】:

一种分析缺陷的方法,适于利用电子装置来执行下述步骤。沿着水平方向,将检测布局等份划分为多个直条区域,并计算每一直条区域的第一缺陷点数。并且,沿着垂直方向,将检测布局等份划分为多个横条区域,并计算每一横条区域的第二缺陷点数。在满足至少下述一个规定条件的情况下,判定检测布局具有缺陷群集。所述规定条件包括:至少一个直条区域的第一缺陷点数大于第一预设值;以及至少一个横条区域的第二缺陷点数大于第二预设值。

技术领域

发明涉及一种面板检测方法,且特别涉及一种分析缺陷的方法。

背景技术

多数薄膜晶体管液晶显示器(Thin film transistor liquid crystal display,TFT-LCD)厂都会通过层层的缺陷检测(Defect Inspection)来实时找出有瑕疵的面板。检测方式大都是通过检查机使用自动扫瞄并照相来进行比对,借此找出有问题的面板。因此这些缺陷检测流程便会产生大量的缺陷信息及缺陷影像档。

而在通过机台检测缺陷之后,必须通过良率技师在这些缺陷信息及缺陷影像档中人工判断是否具有缺陷群集。由于良率技师每天必须检视超过150个生产批次的检测结果,并且需要针对每一个生产批次以及每一片面板来检查和判断缺陷群集,在判定具有缺陷群集的异常时,再经由人工通报。通过人工判断会因标准不一致使的判断结果不同,再加上可能因疲劳等因素导致漏检,进而影响工厂产能、良率、成本。

发明内容

本发明提供一种分析缺陷的方法,可改善过往效率不彰的问题。

本发明的分析缺陷的方法,适于利用电子装置来执行下述步骤,包括:沿着水平方向,将检测布局(Layout)等份划分为多个直条区域,并计算每一直条区域的第一缺陷点数;沿着垂直方向,将检测布局等份划分为多个横条区域,并计算每一横条区域的第二缺陷点数;以及在满足至少下述一个规定条件的情况下,判定检测布局具有缺陷群集,所述规定条件包括:至少一个直条区域的第一缺陷点数大于第一预设值;以及至少一个横条区域的第二缺陷点数大于第二预设值。

在本发明的一实施例中,上述分析缺陷的方法还包括:以第一缺陷点数以及检测布局的总缺陷点数,计算每一直条区域在检测布局中的第一缺陷占比;以及以第二缺陷点数以及检测布局的总缺陷点数,计算每一横条区域在检测布局(Layout)中的第二缺陷占比。所述规定条件还包括:至少一个直条区域的第一缺陷占比大于第一单片占比;以及至少一个横条区域的第二缺陷占比大于第二单片占比。

在本发明的一实施例中,上述检测布局是自缺陷检测机台接收的多个待测品其中一者经缺陷检测后所获得,所述待测品属于同一生产批次。

在本发明的一实施例中,上述分析缺陷的方法还包括:计算生产批次经缺陷检测后所获得的所有缺陷点的批次缺陷总合;以第一缺陷点数以及批次缺陷总合,计算每一直条区域在生产批次中的垂直区域占比;以及以第二缺陷点数以及批次缺陷总合,计算每一横条区域的水平区域占比。所述规定条件还包括:至少一个直条区域的垂直区域占比大于第一批次占比;以及至少一个横条区域的水平区域占比大于第二批次占比。

在本发明的一实施例中,上述在计算生产批次经缺陷检测后所获得的所有缺陷点的批次缺陷总合之后,还包括:在批次缺陷总合大于第一基准数量的情况下,以批次缺陷总合以及检测布局的总缺陷点数,计算检测布局的单片缺陷占比。所述规定条件还包括:总缺陷点数大于或等于第一设定值,且单片缺陷占比大于或等于第二设定值。

在本发明的一实施例中,上述分析缺陷的方法还包括:在批次缺陷总合大于一第二基准数量的情况下,所述规定条件还包括:至少一个直条区域的垂直区域占比大于第一批次占比,其中所述直条区域的数量为3个;在批次缺陷总合大于第三基准数量的情况下,所述规定条件还包括:至少一个横条区域的水平区域占比大于第二批次占比,其中所述横条区域的数量为3个。

在本发明的一实施例中,在判定检测布局具有缺陷群集之后,还包括:针对满足的所述规定条件,记录对应的群集标签。

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