[发明专利]一种阵列基板及其制备方法、显示设备在审

专利信息
申请号: 202210473076.0 申请日: 2022-04-29
公开(公告)号: CN115241284A 公开(公告)日: 2022-10-25
发明(设计)人: 李伟;徐敬义;刘鹏 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
主分类号: H01L29/423 分类号: H01L29/423;H01L27/12;H01L21/84;H01L21/28;G02F1/1362
代理公司: 北京金信知识产权代理有限公司 11225 代理人: 庄何媛
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 本公开提供了一种阵列基板及其制备方法、显示设备,该阵列基板包括:设置在衬底基板上的第一遮光层;设置在第一遮光层上的第一绝缘层;设置在第一绝缘层上的有源层;设置在有源层上的第二绝缘层,其上开设有第一过孔和第二过孔;设置在第二绝缘层上的第一栅极层和第一数据线,第一数据线基于第一过孔与有源层连接;设置在第一栅极层上的平坦层,其开设有第三过孔,第三过孔的位置与第二过孔的位置重合;设置在平坦层上的像素电极,像素电极基于第三过孔和第二过孔与有源层连接。本公开减少了像素单元内TFT结构其中一侧的源漏极以及相应绝缘层的设计,在确保产品性能的同时,降低了阵列基板的制作工艺步骤和制作成本。
搜索关键词: 一种 阵列 及其 制备 方法 显示 设备
【主权项】:
暂无信息
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