[发明专利]一种半导体制程清洗过滤用多孔膜及其生产方法在审

专利信息
申请号: 202210442764.0 申请日: 2022-04-25
公开(公告)号: CN114832654A 公开(公告)日: 2022-08-02
发明(设计)人: 彭震;王天坤 申请(专利权)人: 苏州思脉新材料科技有限公司
主分类号: B01D71/78 分类号: B01D71/78;B01D71/72;B01D67/00;C02F1/44;C02F101/20
代理公司: 苏州汇智联科知识产权代理有限公司 32535 代理人: 高文献
地址: 215000 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种半导体制程清洗过滤用多孔膜及其生产方法,涉及多孔膜技术领域,本发明包括以下成分及其重量百分比:苯并15-冠-5接枝聚乙烯醇10%~18%、水78%~89%、聚乙二醇1%~4%、凝固浴、交联剂,其多孔膜的生产方法,包括以下步骤:选取苯并15-冠-5接枝聚乙烯醇聚合物加入水中,搅拌溶解,得到聚合物溶液,之后相溶液中添加聚乙二醇,待完全溶解后得到铸膜液,之后将其脱泡并放置在自动刮膜机成型,之后通过凝固浴中进行相转化以及在交联剂中交联,以此来得到多孔膜。本发明为一种半导体制程清洗过滤用多孔膜及其生产方法,对Ag+和Pd2+具有选择吸附性能,在回收废水中上述贵重离子领域具有潜在的应用前景。
搜索关键词: 一种 半导体 清洗 过滤 多孔 及其 生产 方法
【主权项】:
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