[发明专利]一种半导体制程清洗过滤用多孔膜及其生产方法

权利要求书

1.一种半导体制程清洗过滤用多孔膜，其特征在于：包括以下成分及其重量百分比：苯并15－冠－5接枝聚乙烯醇10％～18％、水78％～89％、聚乙二醇1％～4％、凝固浴、交联剂。

2.根据权利要求1所述的一种半导体制程清洗过滤用多孔膜，其特征在于：所述苯并15－冠－5接枝聚乙烯醇包括以下成分组成：4－甲酰基苯并15－冠－5、聚乙二醇、二甲基亚砜、甲苯磺酸与催化剂。

3.根据权利要求2所述的一种半导体制程清洗过滤用多孔膜，其特征在于：所述苯并15－冠－5接枝聚乙烯醇的制作包括以下步骤：

A1、缩醛化：选取一定量的聚乙烯醇溶解于二甲基亚砜中，之后依次加入反应原料4－甲酰基苯并15－冠－5和催化剂对甲苯磺酸进行缩醛化反应，在反应结束后，得到其反应液；

A2、成型：将反应液倾倒入无水乙醇中沉淀，并将沉淀物置于索氏提取器中，加入萃取剂来萃取12h，除去游离冠醚和催化剂组分，烘干后即获得苯并15－冠－5接枝聚乙烯醇。

4.根据权利要求3所述的一种半导体制程清洗过滤用多孔膜，其特征在于：所述A1的缩醛化反应温度为80℃，反应时间为10h，所述A2中的萃取剂选用乙醇。

5.根据权利要求4所述的一种半导体制程清洗过滤用多孔膜，其特征在于：所述凝固浴选用饱和硫酸钠与硫酸的混合溶液，所述硫酸的质量分数为15％。

6.根据权利要求5所述的一种半导体制程清洗过滤用多孔膜，其特征在于：所述交联剂选用戊二醛，所述戊二醛的质量分数3％。

7.根据权利要求6所述的一种半导体制程清洗过滤用多孔膜的生产方法，其特征在于：包括以下步骤：

S1、溶解：选取固含量为8.0～110.0％的苯并15－冠－5接枝聚乙烯醇聚合物加入水中，加热到80～100℃并搅拌溶解3～5h，得到聚合物溶液；

S2、制得铸膜液：采用外加法向上述的聚合物溶液中加入重量份为聚合物溶液总质量1.0～4.0％的聚乙二醇，待完全溶解后得到铸膜液；

S3、多孔膜制备：将铸膜液转移至真空烘箱中静置脱泡5～7h，脱泡完成后取适量的铸膜液置于自动刮膜机，并启动仪器刮制成膜，再之后将膜迅速置于凝固浴中进行相转化，最后将膜片浸入交联剂中交联10min，以此来得到多孔膜。

8.根据权利要求7所述的一种半导体制程清洗过滤用多孔膜的生产方法，其特征在于：所述自动刮膜机的玻璃板与刮刀距离为500μm。

9.根据权利要求8所述的一种半导体制程清洗过滤用多孔膜及其生产方法，其特征在于：所述S3的真空烘箱温度设置为10～40℃。