[发明专利]一种RCS测量背景电平抑制方法及装置在审

专利信息
申请号: 202210353544.0 申请日: 2022-04-06
公开(公告)号: CN114578309A 公开(公告)日: 2022-06-03
发明(设计)人: 李万珅;冯孝斌;沈小玲;张达凯;张云;李熙民;刘胤凯;冯雨;邵景星;王晓;苗苗 申请(专利权)人: 北京环境特性研究所
主分类号: G01S7/41 分类号: G01S7/41
代理公司: 北京格允知识产权代理有限公司 11609 代理人: 张沫
地址: 100854*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种RCS测量背景电平抑制方法及装置,应用于包括一维阵列天线的RCS测量系统中,该方法包括:获取未设置待测目标时场地背景的背景电平数据;其中,场地背景与待测目标所处的待架设区域位于同一距离波门;根据背景电平数据,确定待抑制背景电平区域;基于待抑制背景电平区域所包含的方位角、预设目标低副瓣方向图和RCS测量系统,建立待抑制背景电平区域的加权系数求解模型;利用加权系数求解模型,计算得到优化加权系数;根据优化加权系数,得到待抑制背景电平区域的低副瓣方向图。本方案能够从指定角度上抑制与目标处于同一距离波门的地物背景杂波,进而提高低RCS目标的测量精度。
搜索关键词: 一种 rcs 测量 背景 电平 抑制 方法 装置
【主权项】:
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