[发明专利]一种RCS测量背景电平抑制方法及装置在审
申请号: | 202210353544.0 | 申请日: | 2022-04-06 |
公开(公告)号: | CN114578309A | 公开(公告)日: | 2022-06-03 |
发明(设计)人: | 李万珅;冯孝斌;沈小玲;张达凯;张云;李熙民;刘胤凯;冯雨;邵景星;王晓;苗苗 | 申请(专利权)人: | 北京环境特性研究所 |
主分类号: | G01S7/41 | 分类号: | G01S7/41 |
代理公司: | 北京格允知识产权代理有限公司 11609 | 代理人: | 张沫 |
地址: | 100854*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 rcs 测量 背景 电平 抑制 方法 装置 | ||
1.一种RCS测量背景电平抑制方法,其特征在于,应用于包括一维阵列天线的RCS测量系统中,所述方法包括:
获取未设置待测目标时场地背景的背景电平数据;其中,所述场地背景与所述待测目标所处的待架设区域位于同一距离波门;
根据所述背景电平数据,确定待抑制背景电平区域;
基于所述待抑制背景电平区域所包含的方位角、预设目标低副瓣方向图和所述RCS测量系统,建立所述待抑制背景电平区域的加权系数求解模型;
利用所述加权系数求解模型,计算得到优化加权系数;
根据所述优化加权系数,得到所述待抑制背景电平区域的低副瓣方向图。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据所述优化加权系数,得到所述待抑制背景电平区域的低副瓣方向图,包括:
获取所述RCS测量系统的幅相特性曲线;
根据所述幅相特性曲线和所述优化加权系数,对所述RCS测量系统进行调整;
通过调整后的RCS测量系统和所述优化加权系数,得到所述待抑制背景电平区域的低副瓣方向图。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,
所述根据所述背景电平数据,确定待抑制背景电平区域,包括:
从所述背景电平数据中筛选出大于预设电平数据的目标数据,并将所述目标数据所属的场地背景确定为待抑制背景电平区域;其中,所述待抑制背景电平区域中包含至少一个方位角;
和/或
所述优化加权系数包括优化幅度加权系数和优化相位加权系数。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,
所述建立所述待抑制背景电平区域的加权系数求解模型,包括:
获取所述RCS测量系统的参数;其中,所述参数包括所述一维阵列天线的阵元数、阵元间距、各阵元的幅度加权系数及相位加权系数;
基于所述待抑制背景电平区域所包含的方位角和所述参数,确定所述方位角对应的阵因子方向图函数;
根据所述各阵元的幅度加权系数及相位加权系数,计算得到各阵元加权系数矩阵;
根据所述方位角对应的阵因子方向图函数、预设的权重系数矩阵和所述预设目标低副瓣方向图,构建目标函数;
将所述各阵元的幅度加权系数及相位加权系数作为优化变量,生成所述目标函数对所述优化变量的Jacobian矩阵和Hessian矩阵;
基于所述Jacobian矩阵、所述Hessian矩阵和所述各阵元加权系数矩阵,建立所述加权系数求解模型。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,
所述目标函数通过如下公式确定:
其中,J用于表征所述目标函数;I用于表征各阵元加权系数矩阵;W用于表征预设的权重系数矩阵;Sa用于表征预设目标低副瓣方向图;H用于表征转置共轭;T用于表征阵因子系数矩阵;M用于表征待抑制背景电平区域所包含的方位角的个数;N用于表征一维阵列天线的阵元数;d用于表征一维阵列天线的阵元间距;ε用于表征传播常数;用于表征第M个方位角的角度;tMN用于表征在第M个方位角下第N个阵元的阵因子系数。
6.根据权利要求4或5所述的方法,其特征在于,
所述利用所述加权系数求解模型,计算得到优化加权系数,包括:
对所述各阵元加权系数矩阵赋予初始值,并设定迭代次数阈值和目标函数阈值;
基于所述加权系数求解模型迭代得到初始优化加权系数;
当在所述初始优化加权系数下的目标函数值小于所述目标函数阈值时,则停止迭代,并将该初始优化加权系数作为优化加权系数;和/或
当所述初始优化加权系数对应的迭代次数大于所述迭代次数阈值时,则停止迭代,并将该初始优化加权系数作为优化加权系数。
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