[发明专利]一种RCS测量背景电平抑制方法及装置在审
申请号: | 202210353544.0 | 申请日: | 2022-04-06 |
公开(公告)号: | CN114578309A | 公开(公告)日: | 2022-06-03 |
发明(设计)人: | 李万珅;冯孝斌;沈小玲;张达凯;张云;李熙民;刘胤凯;冯雨;邵景星;王晓;苗苗 | 申请(专利权)人: | 北京环境特性研究所 |
主分类号: | G01S7/41 | 分类号: | G01S7/41 |
代理公司: | 北京格允知识产权代理有限公司 11609 | 代理人: | 张沫 |
地址: | 100854*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 rcs 测量 背景 电平 抑制 方法 装置 | ||
本发明提供了一种RCS测量背景电平抑制方法及装置,应用于包括一维阵列天线的RCS测量系统中,该方法包括:获取未设置待测目标时场地背景的背景电平数据;其中,场地背景与待测目标所处的待架设区域位于同一距离波门;根据背景电平数据,确定待抑制背景电平区域;基于待抑制背景电平区域所包含的方位角、预设目标低副瓣方向图和RCS测量系统,建立待抑制背景电平区域的加权系数求解模型;利用加权系数求解模型,计算得到优化加权系数;根据优化加权系数,得到待抑制背景电平区域的低副瓣方向图。本方案能够从指定角度上抑制与目标处于同一距离波门的地物背景杂波,进而提高低RCS目标的测量精度。
技术领域
本发明涉及RCS测量与处理技术领域,特别涉及一种RCS测量背景电平抑制方法及装置。
背景技术
随着隐身技术快速发展,现代化武器装备的隐身性能不断提升,RCS作为隐身性能的重要指标,其量级越来越低。为更加准确测量和评估武器装备的隐身特性,对测量场地低RCS测量能力提出了更高要求。虽然影响RCS测量精度的测量系统自身因素目前能够得到有效解决,按照低RCS目标测量的需求,但在测量目标RCS时,测量场的场地背景回波与目标回波经常混叠在一起进入接收机,直接影响RCS测量系统的测量能力和测量精度等核心指标性能,为此,需要对RCS测量中的背景电平进行抑制处理。
场地背景回波主要包括目标架设支架回波和地物背景杂波,采用低散射目标支架,可以降低目标架设支架回波对测量精度的影响;而地物背景杂波多为分布型散射回波,如地面杂草、场地内围墙、围墙外树林、场地周围建筑和目标吊装设备等的回波,这类回波并不是稳定不变的,而是经常随环境和时间变化而变化。对于与目标处于不同距离单元的地物背景杂波,可以通过距离或时间上的差异,采用时域滤波方法进行抑制。而与目标处于同一距离单元即同一距离波门的地物背景杂波,由于其与目标回波同一时间进入测量系统,无法通过距离或时间上的差异予以抑制,因而严重限制了测量精度的进一步提高。
目前,常通过引入矢量场相减技术消除该背景电平信号,但采用该技术经常存在目标架设回波与特定角度下非稳定的地物背景杂波处于同一量级甚至被后者淹没的现象,使得目标架设支架回波的矢量场相减效果受到限制,影响低RCS目标的准确测量。
发明内容
本发明提供了一种RCS测量背景电平抑制方法及装置,能够从指定角度上抑制与目标处于同一距离波门的地物背景杂波,进而提高低RCS目标的测量精度。
第一方面,本发明提供了一种RCS测量背景电平抑制方法,应用于包括一维阵列天线的RCS测量系统中,所述方法包括:
获取未设置待测目标时场地背景的背景电平数据;其中,所述场地背景与所述待测目标所处的待架设区域位于同一距离波门;
根据所述背景电平数据,确定待抑制背景电平区域;
基于所述待抑制背景电平区域所包含的方位角、预设目标低副瓣方向图和所述RCS测量系统,建立所述待抑制背景电平区域的加权系数求解模型;
利用所述加权系数求解模型,计算得到优化加权系数;
根据所述优化加权系数,得到所述待抑制背景电平区域的低副瓣方向图。
可选地,所述根据所述优化加权系数,得到所述待抑制背景电平区域的低副瓣方向图,包括:
获取所述RCS测量系统的幅相特性曲线;
根据所述幅相特性曲线和所述优化加权系数,对所述RCS测量系统进行调整;
通过调整后的RCS测量系统和所述优化加权系数,得到所述待抑制背景电平区域的低副瓣方向图。
可选地,所述根据所述背景电平数据,确定待抑制背景电平区域,包括:
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