[发明专利]一种半导体器件在审

专利信息
申请号: 202210276504.0 申请日: 2021-03-26
公开(公告)号: CN114649345A 公开(公告)日: 2022-06-21
发明(设计)人: 陈赫;黄磊 申请(专利权)人: 长江存储科技有限责任公司
主分类号: H01L27/11551 分类号: H01L27/11551;H01L27/11524;H01L27/11578;H01L27/1157
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 李镇江
地址: 430205 湖北省武*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种半导体器件,包括阵列器件和将源极层引出的沿第一方向排列的多行源极引出触点。该阵列器件包括多个沟道结构和沿第一方向延伸的多行栅线缝隙,相邻两行栅线缝隙具有第一间距,相邻两行源极引出触点具有第二间距。其中,第二间距等于第一间距,使每个源极引出触点在指存储块中的位置固定,因此每个源极引出触点周围的沟道结构到该源极引出触点的距离固定,从而可以避免沟道结构和源极引出触点间的压降浮动太大,可以使压降控制在较小范围内,以提高器件性能。
搜索关键词: 一种 半导体器件
【主权项】:
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