[发明专利]一种新型结构的IGBT芯片及制备方法在审

专利信息
申请号: 202210214633.7 申请日: 2022-03-07
公开(公告)号: CN114566539A 公开(公告)日: 2022-05-31
发明(设计)人: 陆界江;周明江;吴磊;李娇 申请(专利权)人: 上海睿驱微电子科技有限公司
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/739;H01L21/331;H01L27/082;H01L21/8222
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 刘芳
地址: 201800 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种新型结构的IGBT芯片及制备方法。所述新型结构的IGBT芯片包括:多个元胞结构;单个元胞结构从上到下依次包括芯片表面区域、芯片内部区域以及芯片背面区域;其中芯片表面区域包括发射极区域和氧化层;芯片内部区域包括多晶硅层、栅极氧化层、N+发射区、P+区域、P基区、P浮动区、N‑漂移区以及N‑缓冲区;芯片背面区域包括P+集电极以及背面金属电极;单个元胞结构为轴对称结构;氧化层的中央区域刻蚀有多个等间距设置的分流孔。本发明通过在氧化层的中央区域刻蚀有多个等间距设置的分流孔,在P浮动区上方提供了空穴通道,防止空穴载流子在P浮动区的聚集,在保证击穿电压稳定的情况下提高了IGBT的短路能力。
搜索关键词: 一种 新型 结构 igbt 芯片 制备 方法
【主权项】:
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