[发明专利]真空镀膜设备在审
申请号: | 202210148335.2 | 申请日: | 2022-02-17 |
公开(公告)号: | CN114318296A | 公开(公告)日: | 2022-04-12 |
发明(设计)人: | 任泽明;廖骁飞;余长勇;王号;吴攀;唐志奇;杨帆;杨进仕 | 申请(专利权)人: | 广东思泉新材料股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/448 | 分类号: | C23C16/448;C23C16/509 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 谭裕强 |
地址: | 523000 广东省东莞*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种真空镀膜设备,其包括镀膜机箱、多个蒸发舟、电极、正极电性件、负极电性件和连接电性件。镀膜机箱内设有真空镀膜腔,正极电性件和负极电性件安装于镀膜机箱外,电极安装于真空镀膜腔内,多个蒸发舟呈纵向排列地安装于真空镀膜腔内,蒸发舟的正极端电性连接于正极电性件,蒸发舟的负极端电性连接于负极电性件。正极电性件、负极电性件和连接电性件的第一端位于同一侧,正极电性件、负极电性件和连接电性件的第二端位于同一侧,正极电性件的第一端用于与电源的正极相接,连接电性件的第二端与负极电性件的第二端电性相连,连接电性件的第一端用于与电源负极相接。本发明的真空镀膜设备能使各蒸发舟的发热功率相等。 | ||
搜索关键词: | 真空镀膜 设备 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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