[发明专利]微珠体表面高频振动刻痕装置及高频振动刻痕方法有效

专利信息
申请号: 202210113763.1 申请日: 2022-01-30
公开(公告)号: CN114477793B 公开(公告)日: 2023-05-16
发明(设计)人: 史勇 申请(专利权)人: 内蒙古工业大学
主分类号: C03C23/00 分类号: C03C23/00
代理公司: 北京冠榆知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11666 代理人: 朱亚琦
地址: 010051 内蒙古*** 国省代码: 内蒙古;15
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摘要: 发明公开微珠体表面高频振动刻痕装置及高频振动刻痕方法,微珠体表面高频振动刻痕装置,包括高频振动组件和容器,所述容器内装有微珠体或者微珠体与研磨材料的混合物料,所述高频振动组件的振动输出端与所述容器连接并将高频振动作用在所述微珠体上;微珠体表面高频振动刻痕方法,向容器内加入微珠体、开启高频振动组件,容器内的微珠体在高频振动组件的作用下高频振荡运动。本发明,利用高频振动组件产生高频振荡,驱动微珠体在有限的空间内进行高频振荡运动,从而造成微珠体间及微珠体与容器壁和振动体之间发生相互撞击和摩擦;由于高频振动组件产生的正负交变的振动波驱动微珠体以极高的加速度运动,赋予微珠体极大的作用力。
搜索关键词: 体表 高频 振动 刻痕 装置 方法
【主权项】:
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